近日(ri)，一種新型的(de)(de)中紫外(wai)直接(jie)光(guang)刻機由中國科學院光(guang)電技(ji)術(shu)研究所(suo)微(wei)(wei)電子專用(yong)設備研發團隊在國內研制(zhi)成功。該(gai)設備采用(yong)特有(you)(you)的(de)(de)高(gao)均(jun)勻、高(gao)準直中紫外(wai)照(zhao)明技(ji)術(shu)，結(jie)合光(guang)敏(min)玻(bo)璃(li)材料(liao)，實現基于光(guang)敏(min)玻(bo)璃(li)基底(di)的(de)(de)微(wei)(wei)細結(jie)構(gou)直接(jie)加工，能夠(gou)極大簡化工藝流程，將有(you)(you)力促進光(guang)敏(min)玻(bo)璃(li)微(wei)(wei)細結(jie)構(gou)的(de)(de)光(guang)刻工藝技(ji)術(shu)“革(ge)命”，目前在國內尚未見有(you)(you)此類產(chan)品(pin)成功研發的(de)(de)報道。

　　光(guang)刻(ke)(ke)(ke)設(she)備是用于(yu)微細(xi)(xi)結(jie)(jie)構(gou)(gou)加工的(de)(de)核心設(she)備，在微電子(zi)、生物、醫學和光(guang)學等領(ling)域得到全(quan)面應用。由于(yu)光(guang)刻(ke)(ke)(ke)工藝的(de)(de)限(xian)制，原有光(guang)刻(ke)(ke)(ke)設(she)備大(da)多(duo)是針對光(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)曝(pu)光(guang)進行技術(shu)研(yan)(yan)發(fa)。而針對玻璃基(ji)底的(de)(de)微細(xi)(xi)結(jie)(jie)構(gou)(gou)加工具有特(te)殊性：光(guang)敏(min)玻璃光(guang)譜敏(min)感特(te)性不同于(yu)光(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)、微細(xi)(xi)結(jie)(jie)構(gou)(gou)深寬比大(da)和完全(quan)非接觸(chu)曝(pu)光(guang)。近(jin)年來，針對玻璃基(ji)底的(de)(de)微細(xi)(xi)加工技術(shu)愈發(fa)重(zhong)要(yao)，在微流控(kong)芯片、微光(guang)學元(yuan)件以及OLED顯示屏(ping)等新型微細(xi)(xi)結(jie)(jie)構(gou)(gou)的(de)(de)加工中需(xu)求迫切，也是國內外(wai)光(guang)刻(ke)(ke)(ke)設(she)備研(yan)(yan)發(fa)的(de)(de)重(zhong)要(yao)方向之一。

　　因此，光(guang)(guang)(guang)電技術(shu)研(yan)究所(suo)微電子專用設備研(yan)發團隊聯(lian)合國內(nei)外科研(yan)機構，開展了(le)汞(gong)燈光(guang)(guang)(guang)源(yuan)、大(da)口徑高精度反(fan)射(she)鏡、中紫外鍍(du)膜和(he)(he)間隙測(ce)量等技術(shu)研(yan)發，成功(gong)提高了(le)汞(gong)燈光(guang)(guang)(guang)源(yuan)中紫外光(guang)(guang)(guang)譜(pu)能(neng)量，通過反(fan)射(she)式光(guang)(guang)(guang)路結構保證光(guang)(guang)(guang)能(neng)利用率和(he)(he)準直(zhi)性，精密間隙測(ce)量和(he)(he)控制(zhi)技術(shu)實現(xian)非接觸曝光(guang)(guang)(guang)，并進行了(le)光(guang)(guang)(guang)敏玻璃(li)直(zhi)接光(guang)(guang)(guang)刻(ke)實驗(yan)，實現(xian)了(le)玻璃(li)基底高分辨、高深寬比、大(da)面積微細結構的(de)直(zhi)接光(guang)(guang)(guang)刻(ke)工藝(yi)。

　　該(gai)設(she)(she)備(bei)的成功研(yan)(yan)(yan)制，是光(guang)(guang)刻(ke)設(she)(she)備(bei)研(yan)(yan)(yan)發(fa)(fa)與光(guang)(guang)刻(ke)工藝(yi)應用結合的產物，將(jiang)促進光(guang)(guang)刻(ke)工藝(yi)的革命性改進，符(fu)合國際光(guang)(guang)刻(ke)設(she)(she)備(bei)研(yan)(yan)(yan)究發(fa)(fa)展(zhan)趨(qu)勢，也使得(de)我(wo)國在新型直接光(guang)(guang)刻(ke)設(she)(she)備(bei)研(yan)(yan)(yan)發(fa)(fa)中(zhong)搶(qiang)占先機。(來源：高(gao)端裝備(bei)網)