芯片的(de)(de)量產(chan)(chan)與(yu)規模(mo)量產(chan)(chan)有什么區別?簡單來說(shuo)，前(qian)者是(shi)能夠保(bao)證一定良率(lv)的(de)(de)情況下(xia)產(chan)(chan)出芯片，而規模(mo)量產(chan)(chan)才代(dai)表技藝(yi)成熟度(du)高，良品率(lv)達標。

　　日前，據“上海發布(bu)”消息，上海經信委(wei)介紹，集(ji)成電路領(ling)域(yu)14nm先(xian)進工藝規模(mo)實現(xian)量產，90nm光刻機、5nm刻蝕機、12英(ying)寸大硅片(pian)、國產CPU、5G芯片(pian)等實現(xian)突破。

　　此外，上海全市集成電路產業規模達到(dao)2500億元，約占全國(guo)(guo)25%，集聚重點企(qi)業超過1000家，吸引(yin)了(le)全國(guo)(guo)40%的集成電路人才。

　　據(ju)了解，中芯國際第(di)一(yi)代FinFET 14nm工藝在(zai)2019年(nian)第(di)四季度就完成了量(liang)產，而FinFET N+1工藝此前計劃在(zai)2021年(nian)規模(mo)量(liang)產。

　　N+1是(shi)中芯國際對其第二代先進工(gong)藝的代號，但從未明確具(ju)體(ti)數(shu)字節點，只是(shi)說(shuo)相(xiang)比于14nm性能提升20%、功耗降低57%、邏輯面(mian)積(ji)縮小63%、SoC面(mian)積(ji)縮小55%，之后(hou)的N+2工(gong)藝性能和(he)成本都更(geng)高一(yi)些。